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Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas

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dc.contributor.author Toscano Coahuila, Cristina
dc.date.accessioned 2014-10-15T19:00:45Z
dc.date.available 2014-10-15T19:00:45Z
dc.date.issued 2014-10-15
dc.identifier.uri http://132.248.52.100:8080/xmlui/handle/132.248.52.100/4847
dc.description Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas es_ES
dc.description.abstract Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas es_ES
dc.language.iso es es_ES
dc.subject Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas es_ES
dc.title Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas es_ES
dc.type Tesis es_ES
dc.director.trabajoescrito Ruvalcaba Morales, Raúl
dc.carrera.ingenieria Ingeniería eléctrica y electrónica es_ES


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Nombre: Tesis.pdf
Tamaño: 2.385Mb
Formato: PDF
Descripción: TESIS
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